试验条件:
1、为了ZUI小化可变性,按照制造商说明书维修和校准设备。
2、喷洒和湿化或其他目的的水不应留下不好的沉积物或斑点于暴晒表面。喷淋水不能含有超过1ppm固体物,且硅含量少于0.2ppm。使用ASTM 方法D859或D4517测量硅含量。去离子化合物和反渗透处理可以得到期望的喷淋水纯度。在有些情况下,一些试样的挥发物可能影响试验箱中其他试样。
3、使用合适的光学过滤器以得到期望的光谱能量分布(SPD)。过滤器应提供处于各自范围现实的SPD。
4、选择计划的循环,在以下循环中其提供120分钟光照和60分钟黑暗:60分钟黑暗且前后架喷淋,40分钟光照后20分钟光照和试样前面喷淋,之后60分钟光照,然后重复。试验次序应遵照表1设立的情形。
表1
段
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光照
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黑暗
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喷洒
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1
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无
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60分
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前和后
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2
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40分
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不适用
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无
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3
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20分
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不适用
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前
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4
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60分
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不适用
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无
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*辐射量(KJ•m-2•nm-1)基于J1960方法而列出,其有在340nm下0.55w m-2•nm-1的辐射强度。设备控制宽波段而非窄波段或者操作高光线等级将不时显示有不同发光量。
5、操作控制面板使设备维持表2指定的范围。如果在设备稳定后,实际控制面板的操作条件不适合机器设置,停止试验且在恢复试验前纠正不适合的原因。
表2:控制面板传感器目标值
控制
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黑暗( 1部分)
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光( 2、3、4部分)
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目标
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公差
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目标
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公差
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自动发光 |
无
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0.55W/(m2• nm)
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黑板温度计 |
38
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±3℃
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70
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±3℃
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舱内温度(干球温度计) |
38
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±3℃
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47
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±3℃
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相对湿度 |
95
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±5%
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50
|
±5%
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辐射暴露量 |
见适用说明
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注明:公差在每段喷洒部分不适用。
* 340nm下0.55w m-2•nm-1是在J1960列出的设备默认发光。设备控制宽波段而非窄波段将有不同的值。其他更高或更低的值,契约方达成一致后可以使用。
相对空气湿度:(20±10)%